笑些瞬（f）四种FW-TENG之间的固有输出特性和瞬时最大功率密度比较。

藤岛昭，年A想国际著名光化学科学家，年A想光催化现象发现者，多次获得诺贝尔奖提名，因发现了二氧化钛单晶表面在紫外光照射下水的光分解现象，即本多-藤岛效应（Honda-FujishimaEffect），开创了光催化研究的新篇章，后被学术界誉为光催化之父。此外，间让在纯净和掺杂的PtD-y晶体中观察到了与EnT过程耦合的显着PL各向异性。

1995年获中国驻日大使馆教育处优秀留学人员称号，捧腹同年获国家杰出青年科学基金资助。主要从事纳米碳材料、不已二维原子晶体材料和纳米化学研究，不已在石墨烯、碳纳米管的化学气相沉积生长方法及其应用领域做出了一系列开拓性和引领性工作，是国际上具有代表性的纳米碳材料研究团队之一。就像在有机功能纳米结构研究上，笑些瞬考虑到纳米结构在无机半导体领域所取得的非凡成就，笑些瞬作为一类重要的光电信息功能材料，有机分子结构的多样性，可设计性以及材料合成及制备方法上的灵活性都使得有机纳米结构的研究尤为重要。

年A想2014年作为中国大陆首位获奖人获得美国材料学会奖励MRSMid-CareerResearcherAward。该研究为多孔材料和智能除湿材料的设计提供了一条新途径，间让在生物医学材料、先进功能纺织品、工程除湿材料等方面具有广阔的应用前景。

发展了多种制备有机纳米结构的方法，捧腹并借此开发了多种低维有机纳米功能材料，包括多色发光、白光材料以及光波导和紫外激光器材料等。

这项工作不仅提供了一种多功能石墨烯纤维材料，不已而且为传统材料与前沿材料的结合提供了研究方向，不已将有助于石墨烯与石英纤维在不久的将来实现产业化和商业化。这些位错可以作为非辐射的复合中心，笑些瞬严重地破坏外延层的电学和光学性能，因此在异质外延中设计位错在大多数器件应用中是至关重要的。

异质外延，年A想即在不同物质的衬底上生长外延薄膜，通常不是一个简单的过程。从工艺描述中可以推断，间让机械剥离是一种相对粗糙的工艺，间让它产生的薄膜厚度在几百纳米到几微米范围内，而衬底表面的粗糙度与其他外延lift-off技术相比是最粗糙的。

捧腹在器件层和衬底之间引入缓冲层是一种获得高质量器件层的广泛使用的技术。除了光电子器件的应用外，不已外延生长和lift-off还有潜力被利用来实现非冯诺依曼计算系统在单个芯片上的非冯诺依曼计算系统，不已其方法是将所需的组件混合集成。